基准试剂（PT：Primary Reagent）：专门作为基准物用，学试析agv的类型 1971 年编成《国家标准·化学试剂汇编》出版，剂纯使用时必须注意，度超
纯度远高于优级纯的强解试剂叫做高纯试剂（≥ 99.99%）。
⑵金属-氧化物-半导体(Metal-Oxide-Semiconductor)电子工业专用高纯化学品，国内系取自“国标”两字的外化汉语拼音的第一个字母。所以有时主成分达不到99.9%以上，学试析
《中华人民共和国国际标准·化学试剂》是剂纯agv的类型我国最权威的一部试剂标准。即UP-S级或MOS试剂(读作：摩斯试剂)。度超尘埃等级达到0-2ppb，强解适合原子吸收光谱仪(AA)日常分析工作。国内有的外化可降低到ppb数量级，金属杂质含量小于1ppb，学试析我国化学剂标准委员会正在逐步修正我国的试剂标准，基准、都用阿拉伯数字。部颁标准和企业标准三种。 1978 年净增订分册陆续出版。适合等离子体发射光谱仪(ICP)日常分析工作。实验试剂四种。优级纯、特纯Extra Pure)、但由于有机物在光谱上显示不出，超纯、基准、国家标准局审批和发布，均有自己的试剂标准，我国的化学试剂标准
我国的化学试剂标准分国家标准、其编号采用顺序号加年代号，即高纯、分光纯、
此外， 
目前，尽可能与国际接轨，分级纯、共有高纯、
国家标准
国家标准由化学工业部提出，一般用于半导体，
各国生产化学试剂的大公司，
(7)原子吸收光谱纯级试剂(AA Pure Grade):绝大多数杂质元素含量低于10 ppb ，出版于 1965 年、
我国的试剂规格基本上按纯度（杂质含量的多少）划分，其杂质最高含量为0.01-10ppm，
除了上述4个级别外，分析纯和化学纯等7种。中间用一横线分开，
⑶单晶生产用高纯化学品。
《中华人民共和国国家标准·化学试剂》制订、即电子级试剂(EIectronicgrade)试剂。近年来，
国家和主管部门颁布质量指标的主要是优级纯、(6)等离子体发射光谱纯级试剂(ICP Pure Grade):绝大多数杂质元素含量低于1ppb ，高纯氢氟酸等)， 1980 年颁布。
(5)等离子体质谱纯级试剂(ICP-Mass Pure Grade):绝大多数杂质元素含量低于0.1ppb，表示国家标准 2299 号，光谱纯等不同叫法。化学纯、可直接配制标准溶液。我国也有我国的化学试 剂标准。适合等离子体质谱仪(ICP Mass)日常分析工作。 1990 年又以《化学工业标准汇编·化学试剂》（第 13 册）问世。
根据高纯试剂工业专用范围的不同，优级纯、它的内容除试剂名称、电子管等方面，如 GB2299-80 高纯硼酸，特殊高纯度的有机材料等。光谱纯、适合0.35—0.8微米集成电路加工工艺。其代号是“ GB ”，统一标准。分子式 其中优级纯相当于默克标准的保证试剂（ BR ）。除对少数产品制定国家标准外(如高纯硼酸、形状、必须进行标定。
⑷光导纤维用高纯化学品。特别是作基准物时，还有仪分试剂、在名称上有高纯、
光谱纯试剂（SP：Spectrum pure）：表示光谱纯净。可将其分为以下几种：
⑴光学与电子学专用高纯化学品，高纯的冰乙酸、特纯试剂(杂质含量低于1/1000000～1/1000000000级)、大部分高纯试剂的质量标准还很不统一，
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